広視野
対象全体を一度に捉える光学設計により、大面積基板の効率的な評価を可能にします。
スミックスの検査ソリューション
スミックスは単なる検査装置メーカーではありません。
光学設計、照明設計、撮像技術を組み合わせ、お客様の検査課題に最適なソリューションを提案しています。
このような課題はありませんか？
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歩留まり低下の原因が分からない
微小異物や粒子汚染を可視化し、工程異常の早期発見を支援します。
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ウェハ全面を短時間で検査したい
広視野・高速撮像により、大面積基板を効率的に評価できます。
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レジストの塗布状態を安定管理したい
膜厚ムラや塗布条件の違いを可視化し、工程最適化に活用できます。
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表面欠陥の原因を特定したい
微細な段差や結晶欠陥を高感度に検出し、不良解析を支援します。
スミックスの技術で解決できます
課題 01
微小異物を発見したい
歩留まり低下の原因となる粒子汚染は、発生源や発生タイミングを把握することが重要です。 スミックスのマクロ検査技術は、広視野でありながら微小異物を高感度に可視化し、 工程異常の早期発見を支援します。
- 微小異物の可視化
- 粒子汚染の傾向把握
- 歩留まり改善支援
課題 02
ウェハ全面を短時間で評価したい
サンプリング検査だけでは、全面に発生するムラや異常を見逃す可能性があります。 スミックスは広視野光学系とラインセンサ技術により、 高速撮像と高感度検出を両立します。
- 広視野撮像
- 高スループット検査
- 評価工数の削減
課題 03
レジスト塗布状態を安定管理したい
レジスト塗布工程では、わずかな膜厚差や塗布条件の違いが品質に影響します。 スミックスのOAS技術と画像処理により、通常観察では分かりにくい膜厚ムラを見える化し、 条件出しや工程管理を支援します。
- 膜厚ムラの可視化
- 塗布条件の比較評価
- コーター管理・ロット変更時の評価
課題 04
表面欠陥の原因を特定したい
鏡面ウェハや薄膜基板では、微細な段差や結晶欠陥が品質問題につながることがあります。 スミックスの光学技術は、表面状態のわずかな変化を高感度に抽出し、 不良解析や品質保証を支援します。
- 結晶欠陥の可視化
- 表面段差評価
- 異常解析支援
スミックスのマクロ光学技術の強み
高速撮像
ラインセンサを活用した撮像制御により、検査時間の短縮と生産性向上に貢献します。
高感度検出
照明条件と観察条件を最適化し、通常観察では見えにくい微細な変化を可視化します。
カスタム対応
お客様のワークや検査目的に合わせて、光学系・照明・画像処理を最適化します。
ぜひスミックスにご依頼ください
ご提案の流れ
| STEP 01 | 課題ヒアリング |
|---|---|
| STEP 02 | サンプル評価 |
| STEP 03 | 光学・照明設計 |
| STEP 04 | システム提案 |
| STEP 05 | 導入・技術サポート |
対応分野
Semiconductor
半導体ウェハ検査
FPD
ガラス基板検査
NIL
ナノインプリント検査
Others
電子材料・フィルム検査